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    為客戶提供全面的設(shè)備和工藝解決方案
    • 薄膜沉積 • 薄膜刻蝕 • 定制設(shè)備
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    "產(chǎn)品中心
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    AVP 電子束蒸鍍機 SYSTEM
    -制備高性能、高可靠性功能薄膜的關(guān)鍵設(shè)備
    
-廣泛用于高熔點、高沸點材料處理，如蒸發(fā)鎢、鉬、鉭、氧化鋁等材料
    
-附著力強、結(jié)構(gòu)致密的高質(zhì)量薄膜
    
-實踐證明的可靠、低成本、高產(chǎn)能的薄膜沉積系統(tǒng)和工藝
    -制備高性能、高可靠性功能薄膜的關(guān)鍵設(shè)備
    
-廣泛用于高熔點、高沸點材料處理，如蒸發(fā)鎢、鉬、鉭、氧化鋁等材料
    
-附著力強、結(jié)構(gòu)致密的高質(zhì)量薄膜
    
-實踐證明的可靠、低成本、高產(chǎn)能的薄膜沉積系統(tǒng)和工藝
    AVP IBE System
    - 廣泛適用所有材料刻蝕，包括RIE難以刻蝕的Au、Pt、Mo等難熔金屬、Fe、Co、Ni等磁性材料、陶瓷、氧化物、多層膜、傾斜光柵等。 
    
-  成熟、可靠、低成本、高產(chǎn)能、7/24連續(xù)運行的薄膜刻蝕系統(tǒng)  
    
- 歐美工業(yè)生產(chǎn)驗證的、多種成熟的薄膜刻蝕工藝  
    
- 杰出的薄膜刻蝕均勻性和重復(fù)性
    - 廣泛適用所有材料刻蝕，包括RIE難以刻蝕的Au、Pt、Mo等難熔金屬、Fe、Co、Ni等磁性材料、陶瓷、氧化物、多層膜、傾斜光柵等。 
    
-  成熟、可靠、低成本、高產(chǎn)能、7/24連續(xù)運行的薄膜刻蝕系統(tǒng)  
    
- 歐美工業(yè)生產(chǎn)驗證的、多種成熟的薄膜刻蝕工藝  
    
- 杰出的薄膜刻蝕均勻性和重復(fù)性 
    
- 純物理刻蝕，采用惰性氣體為工藝氣體，環(huán)保、無污染，應(yīng)用廣泛
    AVP HR PVD System
    -高濃度離子輔助的傾角濺射（Directional Sputtering）
    
-高速率反應(yīng)濺射，如Al2O3的沉積速率 > 1nm/s
    
-優(yōu)異的薄膜厚度均勻性（1σ<1%），裹覆率（Step Coverage ~50%）
    
-基片背面氦氣冷卻，基片溫度（<50°C）
    
-高靶材使用率（>8
    -高濃度離子輔助的傾角濺射（Directional Sputtering）
    
-高速率反應(yīng)濺射，如Al2O3的沉積速率 > 1nm/s
    
-優(yōu)異的薄膜厚度均勻性（1σ<1%），裹覆率（Step Coverage ~50%）
    
-基片背面氦氣冷卻，基片溫度（<50°C）
    
-高靶材使用率（>80%）
    "支持與服務(wù)
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    "關(guān)于艾微普
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    專注打造世界先進水平的高端微納器件、半導(dǎo)體、及新能源加工設(shè)備
    公司由美國硅谷企業(yè)家團隊與國內(nèi)著名上市企業(yè)天通公司(TDG)合作，在浙江海寧創(chuàng)立。公司聚集了多位海內(nèi)外資深微納加工及半導(dǎo)體設(shè)備、工藝、材料專家，專注打造世界先進水平的高端微納器件、半導(dǎo)體、及新能源加工設(shè)備。

    
公司的核心技術(shù)和產(chǎn)品包括物理氣相沉積/磁控濺射（PVD）、離子束刻蝕機（IBE）、反應(yīng)離子刻蝕機（RIE）、電子束蒸鍍機等系列MEMS、半導(dǎo)體、新能源器件制造專用設(shè)備。公司自創(chuàng)立以來，已經(jīng)獲得幾十項國家專利。
    公司總部
    中國浙江省嘉興市海寧市海昌街道芯中路6號16幢
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